投资者提问：

亲爱的董秘，您好！！！ 从现有信息来看，本上市公司的半导体级清洗设备在技术上可适配于光刻机/胶设备的清洗环节，尤其是在SAQP（自对准四重图形）工艺中的光刻胶去除领域。是否与新凯来的设备需求存在一定协同性，为半导体制造提供设备的配套。或者该合作仍处于技术适配和产业链协同的推测阶段。

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。公司与新凯来目前暂无业务合作。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。子公司国林半导体目前主营业务产品包括：臭氧气体发生器、臭氧气体输送设备、半导体级高浓度臭氧水系统、臭氧水溶浓度检测仪、臭氧尾气分解器等，可应用于半导体、光伏、电子光电等微观制程领域，目前占公司营业收入比重较小。公司目前已与部分清洗设备厂商、光伏、面板等头部企业建立了合作关系，产品验证工作正在有序进行。感谢您的关注。

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